SYNTHESIS AND MICROSTRUCTURE OF SUPERHARD TiN／SiNx MULTILAYER THIN FILMS

来源 :金属学报：英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：sqtian

【摘要】

：

Multilayer thin films of TiN/SiNx have been deposited onto heated Si 100 substrates (200℃) by reactive dc-magnetron sputtering from Ti and Si targets in an Ar-

【作者】

：

Z.F.Zhou Y.G.Shen Y.W.Mai K.Y.

【机构】

：

AdvancedCoatingsAppliedResearchLaboratory（ACARL）,CentreforAdvancedMaterialsTechnology（CAMT）

【出处】

：

金属学报：英文版

【发表日期】

：

2005年3期

【关键词】

：

钛化氮硅化氮合成工艺应力结构多层薄膜 multilayers hardness supermodulu s stress TiN/SiNx

【基金项目】

：

the Research Grant Council of the Hong Kong Special Administrative Region, China

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Multilayer thin films of TiN/SiNx have been deposited onto heated Si 100 substrates (200℃) by reactive dc-magnetron sputtering from Ti and Si targets in an Ar-N2 gas mixture. The rotation speed of the substrate holder was varied from 1 to 20rpm, while tar

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