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为了提高对单晶硅的光学利用率,本文通过碱液刻蚀得到硅锥结构,在其表面包覆TiO2薄膜,得到微纳结构A-TiO2/P-Si。通过反射光谱对其进行抗反射性能表征,发现该结构具备良好的抗反射性能;通过探究其对染料罗丹明6G的降解,发现其在模拟太阳光下具有降解染料的优异能力;通过对其进行光电流测试,发现该结构具备良好的光电转换效率。