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本文介绍等离子体增强磁控溅射离子镀ＴｉＮ涂层工艺，膜层组织结构和性能；研究和基片负偏压和靶功率对膜层组成和性能的影响；探讨了Ｔｉ２Ｎ对膜层的强化作用，结果表明，由Ｔｉ２Ｎ和ＴｉＮ的两相组成的恨具涂层具有良好切削性能。
刀具TiN涂层工艺与切削试验
【摘 要】
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本文介绍等离子体增强磁控溅射离子镀ＴｉＮ涂层工艺，膜层组织结构和性能；研究和基片负偏压和靶功率对膜层组成和性能的影响；探讨了Ｔｉ２Ｎ对膜层的强化作用，结果表明，由Ｔｉ２Ｎ和ＴｉＮ的两相组成的恨具涂层
【机 构】
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大连理工大学材料工程系,大连供热工程应用技术研究所
【出 处】
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机械工程师
【发表日期】
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1995年3期
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