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硅各向异性腐蚀对偏压依赖和重掺杂停蚀机理的新模型
硅各向异性腐蚀对偏压依赖和重掺杂停蚀机理的新模型
来源 :应用科学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:syhlgs
【摘 要】
:
系统研究了硅各向异性腐蚀对偏压的依赖及重掺杂的影响,建立了液一半接触能带模型和界面电荷传递模型,提出了反应注入概念且指出腐蚀速度通常依赖于界面态的填充情况,合理解
【作 者】
:
林海安
张家慰
【机 构】
:
东南大学,东南大学
【出 处】
:
应用科学学报
【发表日期】
:
1992年2期
【关键词】
:
各向异性
腐蚀
偏压
重掺杂
anisotropio silicon etching
liquid-semiconduotor contact
reacti
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系统研究了硅各向异性腐蚀对偏压的依赖及重掺杂的影响,建立了液一半接触能带模型和界面电荷传递模型,提出了反应注入概念且指出腐蚀速度通常依赖于界面态的填充情况,合理解释了实验得到的蚀速-偏压关系.考虑到非平衡载流子复合后,得到与实验吻合的蚀速比-载流子浓度公式.
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