Bi-Cu film deposition in aqueous solutions

来源 :中国有色金属学会会刊:英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户:bm_imba
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相对一致的铋铜电影是 electrodeposited 在之间 ? 15 并且 ? 在包含 4 mmol/L 铋离子和 2 mmol/L 铜的硫酸盐电解质的 20 mV 离子。仅仅铜是 electrodeposited 在 ? 5 mV。树枝状的铋铜电影是 electrodeposited 在下面 ? 20 mV。cathodic 水流变得不变在之间 ? 20 并且 ? 400 mV。因此,从充电的铋铜电极淀积变化转控制到散开控制在 ? 20 mV。在另一方面,一致铋铜电影是 electrodeposit
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