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CVD技术在制备含硅化合物膜层中的应用

来源 :材料科学与工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户：sunshineaigeng

【摘 要】

：

本文综述了近十几年来CVD技术在不同基底材料上制取含硅化合物膜层的研究应用,并提出了目前存在的问题.

【作 者】

：

刘立 沈复初 袁骏 叶必光 田丽 郦剑 

【机 构】

：

浙江大学材料系

【出 处】

：

材料科学与工程

【发表日期】

：

2001年2期

【关键词】

：

硅基底 玻璃基底 金属材料基底 CVD 含硅化合物膜 化学气相沉积 薄膜制备 CVD  silicon  films 

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本文综述了近十几年来CVD技术在不同基底材料上制取含硅化合物膜层的研究应用,并提出了目前存在的问题.

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