【摘 要】
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采用HF酸对熔石英材料刻蚀不同的时间,利用同步辐射X射线荧光成像方法（SXRF）研究熔石英材料亚表面区域的杂质种类和相对含量,利用AFM和白光干涉仪研究刻蚀区域表面形貌和表面粗
【机 构】
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中国工程物理研究院激光聚变研究中心,电子科技大学物理电子学院,北京科技大学物理系
【基金项目】
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国家自然科学基金（61178018）
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采用HF酸对熔石英材料刻蚀不同的时间,利用同步辐射X射线荧光成像方法（SXRF）研究熔石英材料亚表面区域的杂质种类和相对含量,利用AFM和白光干涉仪研究刻蚀区域表面形貌和表面粗糙度,并采用R：1方式测试激光损伤阈值。实验结果表明,熔石英亚表面的杂质主要包括Fe、Cu、Ce,其相对含量随刻蚀时间的增加而降低。在刻蚀时间小于30 min时,损伤阈值明显提升;继续增加刻蚀时间,阈值降低。当刻蚀时间较短时,Cu、Ce等杂质含量对损伤阈值影响较大。刻蚀时间过长时,元件表面粗糙度成为影响损伤阈值的主要因素。
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