【摘 要】
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文章采用射频磁控溅射法在烧结钕铁硼表面沉积SiC薄膜,将制备的薄膜分别在200、400℃氩气气氛中退火120min。用X射线衍射仪和原子力显微镜表征薄膜的结构和形貌,并研究了镀膜
【机 构】
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合肥工业大学材料科学与工程学院,安徽大地熊新材料股份有限公司
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文章采用射频磁控溅射法在烧结钕铁硼表面沉积SiC薄膜,将制备的薄膜分别在200、400℃氩气气氛中退火120min。用X射线衍射仪和原子力显微镜表征薄膜的结构和形貌,并研究了镀膜NdFeB在NaCl溶液中的耐腐蚀性能。动电位极化曲线结果表明,未镀膜NdFeB试样的自腐蚀电流密度为1.37×10-6 A/cm2左右,而镀膜未退火试样的自腐蚀电流密度约为1.54×10-8 A/cm2。结果表明,在快速且破坏性强的腐蚀情况下,镀膜试样抗腐能力比未镀膜好。
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