电沉积钨钴合金的工艺研究

来源 :中国钨业 | 被引量 : 0次 | 上传用户:cuida3
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研究了W-Co合金电镀工艺,讨论了电流密度、主盐浓度、阳极、pH值和温度对电镀的影响,并对在不同基体材料上的电镀钨合金的难易程度进行了比较.结果表明,电流密度在4~6A/dm2,镀液的pH=4~5.5,室温下就能获得较好的合金镀层.在不同基体金属上电镀W-Co合金时,基体金属的电位要正于镀层金属的电位,才能获得结合力良好的镀层.
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