镍铂修饰n型硅电极光电解析氧

来源 :化学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：talen

【摘要】

：

本文以 n/n+-Si半导体为基底,通过碱溶液刻蚀处理和Ni/Pt双层金属膜表面修饰后作为光阳极,用于1.0mol·dm-3KOH溶液中光助电解水析氧.在恒电势1.0V（相对HgO/Hg电极）和90mW&

【作者】

：

李怀祥李国铮王士勋

【机构】

：

山东师范大学化学系,山东大学化学系

【出处】

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化学学报

【发表日期】

：

1996年2期

【关键词】

：

光电化学半导体硅电极光电解析氧光解水制氢

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本文以 n/n+-Si半导体为基底,通过碱溶液刻蚀处理和Ni/Pt双层金属膜表面修饰后作为光阳极,用于1.0mol·dm-3KOH溶液中光助电解水析氧.在恒电势1.0V（相对HgO/Hg电极）和90mW·cm-2光照射下,最佳电极的析氧电流达到65.2mA·cm-2,稳定性实验表明,连续光照不超过200小时,光电极具有良好的抗腐蚀性.对电极表面进行了X-光电子能谱（ESCA）分析.更多还原

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