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介绍了国内外磁光盘抗腐蚀研究的进展，比较了目前常用的几种保护材料的基本特性，分析了对磁光盘进行优化设计的关键技术，在对现有的磁光保护层材料的不足进行分析的基础上，预测了磁光盘保护材料研究发展的未来趋势。
磁光盘抗腐蚀研究的进展
【摘 要】
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介绍了国内外磁光盘抗腐蚀研究的进展，比较了目前常用的几种保护材料的基本特性，分析了对磁光盘进行优化设计的关键技术，在对现有的磁光保护层材料的不足进行分析的基础上，预测了
【机 构】
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化中理工大学固体电子学系
【出 处】
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磁记录材料
【发表日期】
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1997年4期
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