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引进的俄罗斯TM-1201溅射台，经过在生产过程中结合现状不断革新改进、工艺技术上精雕细啄，从而使该设备长期保持良好的运行状态。薄膜的质量、膜厚均匀性也得到显著提高，并能满足1000MHz器件（铝条间隔0．58μm）对镀膜提出的质量要求。
TM-1201溅射台及其工艺的完善
【摘 要】
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引进的俄罗斯TM-1201溅射台，经过在生产过程中结合现状不断革新改进、工艺技术上精雕细啄，从而使该设备长期保持良好的运行状态。薄膜的质量、膜厚均匀性也得到显著提高，并能满
【机 构】
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无锡华普微电子有限公司
【出 处】
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电子与封装
【发表日期】
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2006年11期
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