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采用保护基团引发剂在环己烷溶剂中通过阴离子聚合合成双端羟基聚异戊二烯,并通过GPC,IR,1HNMR,羟值分析方法对其进行了表征.结果表明,聚合物有高的1,4-结构含量,同时聚合物的分子量大小可以控制、分子量分布窄、官能度接近2.
高1,4-结构含量的端羟基聚异戊二烯遥爪聚合物的合成
【摘 要】
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采用保护基团引发剂在环己烷溶剂中通过阴离子聚合合成双端羟基聚异戊二烯,并通过GPC,IR,1HNMR,羟值分析方法对其进行了表征.结果表明,聚合物有高的1,4-结构含量,同时聚合物
【机 构】
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山东大学化学与化工学院高分子研究所,中国工程物理研究院激光聚变研究中心
【出 处】
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化学学报
【发表日期】
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2008年01期
【基金项目】
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高温高密度等离子体物理国防科技重点实验室基金(No.9140c6806010608)资助项目
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