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利用空心阴极放电等离子体源在Si(100)衬底上沉积了氮化碳薄膜. 用XRD,SEM,XPS及拉曼和红外吸收光谱对薄膜的结构、成分和化学键等进行了研究. XRD分析表明,制备的氮化碳薄膜为非晶结构. XPS分析证实了薄膜中以C-C,sp2CN和sp3CN键为主,并得出薄膜中的氮碳比为0.71,而sp3-CN相的含量也达到了0.39. 拉曼和红外吸收光谱的结果也与XPS分析的键态结果一致.