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介绍了248nm,193nm,1 57nm准分子激光投影光刻的发展过程和下一代光刻技术(NGL)的实用化前景.
21世纪微电子光刻技术
【摘 要】
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介绍了248nm,193nm,1 57nm准分子激光投影光刻的发展过程和下一代光刻技术(NGL)的实用化前景.
【机 构】
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中科院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,中科院光电技术研究所微细加工光学技
【出 处】
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半导体技术
【发表日期】
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2001年10期
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