铜纳米线透明导电膜的制备与性能

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用水合肼还原硝酸铜溶液的方法,合成出高长径比的单晶铜纳米线,用X射线粉末衍射仪、扫描电镜、透射电镜等对产物进行了分析,研究了原料配比、水合肼加料方式等工艺因素对反应产物的影响;用孔径为0.45μm的注射式过滤膜滤出铜线并接触转移到透明商用手机贴膜表面制成铜纳米线膜,用紫外-可见光谱仪和四探针表面电阻仪分别测试其可见光透射率和表面电阻。结果表明:80℃时,制备的铜纳米线长度大于40μm,直径小于100 nm;铜纳米线膜的可见光透射率为50%,平均方块电阻为26Ω。
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