铝诱导晶化制备多晶硅薄膜研究进展

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铝诱导晶4g(AIC)技术制备多晶硅(Poly-Si)薄膜因处理温度低、退火时间短,且所制备的薄膜晶粒尺寸大而受到广泛关注。阐述了AIC法制备Poly-Si薄膜的交换机制,着重讨论了AIC过程中工艺条件对制备Poly-Si薄膜质量的影响,简单介绍了AIC制备的Poly-Si薄膜在太阳电池器件方面的研究现状,并指出提高AIC法制备的Poly-Si薄膜籽晶层及外延层质量以改善薄膜电池性能是今后的重点研究方向。
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