论文部分内容阅读
目的评价改良平面导板与横腭弓在安氏Ⅱ类深覆[牙合]错[牙合]矫正治疗中，对上颌支抗磨牙的控制效果。方法选择15例安氏Ⅱ类1分类非高角面型患者，分析联合应用改良平面导板与横腭弓强化上颌磨牙支抗的作用，比较治疗前后的X线头影测量值和模型测量。结果治疗前后支抗上颌磨牙在前后向上近中前移被控制在拔牙间隙的1／4以内，在水平向磨牙宽度无明显变化，在垂直向磨牙位置基本不变。结论改良平面导板与横腭弓联合应用能较好地控制上颌磨牙支抗，在安氏Ⅱ类深覆[牙合]治疗中有较高的临床使用价值。