调制比对TC4/ZrB2多层膜结构和机械性能的影响

来源 :天津师范大学学报:自然科学版 | 被引量 : 0次 | 上传用户:cd21love
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为研究不同调制比对TC4/ZrB2(tTC4:tZrB2)纳米多层膜结构和机械性能的影响,采用磁控溅射镀膜技术在Si基底上设计制备了一系列具有不同调制比(tTC4:tZrB2)的TC4/ZrB2纳米多层薄膜,利用X线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(HRTEM)和纳米压痕系统对多层膜的晶体结构、断面形貌、硬度、弹性模量和膜基结合情况进行测量,并通过退火处理对多层膜的热稳定性进行分析.结果表明:界面的扩散和畸变抑制了两调制层的结晶生长,使多层膜呈非晶结构.在tTC4:tZrB2为1:
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