调制比对TiB_2/TiAlN纳米多层膜结构和机械性能的影响

来源 :天津师范大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：zhaimeng2

【摘要】

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利用射频磁控溅射技术在室温下合成了具有纳米调制周期的TiB2/TiAlN多层膜.分别采用X射线衍射仪（XRD）、表面轮廓仪、纳米力学测试系统和多功能材料表面性能实验仪分析了调制比

【作者】

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刘思鹏邓湘云李德军

【机构】

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天津师范大学物理与电子信息学院

【出处】

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天津师范大学学报(自然科学版)

【发表日期】

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2011年2期

【关键词】

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磁控溅射 TiB2/TiAlN纳米多层膜调制比硬度 magnetron sputtering nanoscale TiB2/TiAlN multilayer

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利用射频磁控溅射技术在室温下合成了具有纳米调制周期的TiB2/TiAlN多层膜.分别采用X射线衍射仪（XRD）、表面轮廓仪、纳米力学测试系统和多功能材料表面性能实验仪分析了调制比对TiB2/TiAlN纳米多层膜结构和机械性能的影响.结果表明：大部分多层膜的纳米硬度和弹性模量值均高于两种个体材料混合相的值,在调制比为tTiB2∶tTiAlN=5∶2时,多层膜体系的硬度超过36GPa,其他机械性能也达到较佳效果.

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