论文部分内容阅读
研究了涂胶返腐法无机介质表面平坦化的工艺理论及方法。首先通过求解一阶偏微分方程的定解问题，得到了用函数表示的平坦化表面与平坦剂表面，无机介质表面及腐蚀速度间的解析关系，并据此对实现平坦化的条件进行了全面分析；研究了以光刻胶作为平坦剂的最佳工艺条件，引入了平坦度（Ｄｏｐ）的概念，测量了工艺结果，介绍了计算平坦剂形貌的Ｗｉｌｓｏｎ经验模型及实现完全平坦ＰＢＭ法；在Ｔｅｇａｌ９０３ｅ设备上采用ＣＨＦappe