【摘 要】
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分别建立了旋转平面与球面夹具配置下的薄膜膜厚均匀性理论计算模型,对3.6m大口径镀膜机下直径为2.6m基板的膜厚均匀性进行了研究。为了改善膜厚均匀性,分别采用两个蒸发源和
【机 构】
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中国科学院光电技术研究所,中国科学院研究生院
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分别建立了旋转平面与球面夹具配置下的薄膜膜厚均匀性理论计算模型,对3.6m大口径镀膜机下直径为2.6m基板的膜厚均匀性进行了研究。为了改善膜厚均匀性,分别采用两个蒸发源和三个蒸发源进行蒸镀。薄膜的膜厚不均匀性通过理论计算模型进行优化计算得到。对于两个蒸发源,分别得到了两旋转夹具配置下的最优几何配置,对应的膜厚不均匀性最小值分别为7.62%和5.58%。对于三个蒸发源,也分别得到了两旋转夹具配置下的最优几何配置,对应的膜厚不均匀性最小值分别为5.79%和3.48%。结果表明：采用三个蒸发源能更好的改善膜厚分
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