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光掩膜石英玻璃基板是光掩膜技术中的上游产品,广泛应用于半导体和光学等领域。随着半导体器件的集成化发展,对光掩膜石英玻璃基板的技术要求也越来越高。为满足市场需求,光掩膜石英玻璃基板的制造工艺也在不断改进,包括材料石英锭的熔制、热加工和冷加工等工艺。本文对光掩膜石英玻璃基板主要的制造工艺作出探究,提出一套石英玻璃基板的生产工艺流程。该工艺流程在实际中验证了可行性,可以为光掩膜石英玻璃基板的生产与研制提供借鉴。