紫外激光波长(266 nm)多孔二氧化硅减反膜

来源 :光学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:johndovl1
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以正硅酸乙酯作为前驱体,乙醇作为溶剂,氨水作为催化剂,在碱催化体系下制备了高分散的SiO2溶胶;然后采用提拉法在不同浓度的SiO2溶胶涂膜液中制备了四倍频266 nm波长增透的SiO2减反膜,并对各膜层的性能进行了测试.测试结果表明:在浓度最大的SiO2溶胶中以4.5 cm·min-1的提拉速度制备得到的四倍频SiO2减反膜的性能最优,其在266 nm处的透过率达到了99.307%,表面粗糙度为1.339 nm,且透过率稳定性优异.
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摘要:自出现以来,计算机产业出现了指数式的增长,应用范围和用户大量增长。现有计算机技术已经在信息收集与管理、文字整理与编排以及一些辅助功能上普及,计算机技术已经融入到人们方方面面的生活之中。自从计算机的操作系统进入图像化的操作界面以后,更是得到了更大的推广。而对于高校教育来说,校园网技术在各处发挥着作用。本文进行了学校试题库管理系统的分析与研究,设计出一种便于教师使用的快速试题编排系统,提供更为合