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给出了一种分析表面粗糙度对氮化硅（SiNx）薄膜光热偏折谱（PDS）影响的简单方法．得出了光散射影响下，由PDS实验测得的薄膜的吸收系数与表面粗糙度的函数关系式、在此基础上，对PDS测得的具有纳米量级表面粗糙度的SiNx薄膜的吸收系数进行了修正，并进一步给出了不同薄膜厚度和表面粗糙度情况下，PDS测量结果的偏差．结果表明，在较低能量区域，PDS实验测得的薄膜吸收系数偏差较大，这种偏差不仅取决于薄膜的表面粗糙度，而且与薄膜的厚度相关，较大的表面粗糙度和较小的薄膜厚度将使其偏差显著增加；而在高能区域，这种偏差