【摘 要】
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<正>戴一帆超精密加工是以追求高精度为目标的制造技术,纳米精度制造代表其发展前沿,以极大规模集成电路光刻制造、惯性约束聚变和高分对地观测等为代表的国家重大工程迫切需
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<正>戴一帆超精密加工是以追求高精度为目标的制造技术,纳米精度制造代表其发展前沿,以极大规模集成电路光刻制造、惯性约束聚变和高分对地观测等为代表的国家重大工程迫切需要纳米精度制造技术的支撑。论文面向国家重大需求和超精密加工发展前沿,开展亚纳米精度制造的基础研究,寻求光学表面加工精度的突破。主要研究内容如下:(1)区别于传统超精密切削加工依靠机床运动轨迹创成的表面成型方法,研究误差高点的可控去除理论,掌握了离子束溅射作用下材料原子分子量级的可控去除机理,奠定了亚纳米制造的理论基础;优化设计了具有材料添加和去除功能的离子
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