改善器件性能的射频退火

来源 :仪器制造 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wodeking2009
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一、概述在SiO_2—Si结构中,界面态和固定界面电荷及SiO_2中的陷阱电荷,严重地影响了Si平面器件的性能及稳定性。为了减少陷阱电荷对热电子的俘获,必须抑制热电子发射,并减少SiO_2中的陷阱电荷。实践证明,采用退火处理解决这个问题是行之有效的。 I. Overview In the SiO_2-Si structure, the interfacial states and the interfacial charges and the trap charges in SiO_2 seriously affect the performance and stability of Si planar devices. In order to reduce the trapped charge of hot electrons, it is necessary to suppress the hot electron emission and reduce the trap charge in SiO 2. Practice has proved that the use of annealing treatment to solve this problem is effective.
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