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于醋酸溶液中通过溶液插层技术将不同分子量的壳聚糖与钠基蒙脱土进行插层复合，制备了系列壳聚糖／蒙脱土插层复合物。通过XRD、TEM、FFIR测试技术对插层复合物的结构进行了表征。结果表明，仅通过醋酸溶液处理，残留的HAc就可使MMT层间距由原来的1．3nm增加至1．55nm，并使结构规整性提高：降低壳聚糖分子量有利于MMT层间距增大，并出现更多剥离形态的蒙脱土；当壳聚糖分子量为4．1×10^4时．最大层间距可达2．48nm，但进一步降低壳聚糖分子量层间距反而略微减小；红外光谱分析表明，插层复合物中