离子刻蚀,化学抛光和机械抛光晶体比较

来源 :压电晶体技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lwz
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
其他文献
本文详细地讨论了双晶体谐振荡器(双晶振荡器)的相位噪声特性。对于闪变噪声而言,由于双晶体谐振器短期频率噪声的互不相干性,噪声指标将得到10log2或20log2的改善,对于白底噪声而言,由于双晶体
影响有机合成选择性和收率的因素主要包括反应机理、反应温度、立体效应、副反应等。由于缺乏相关数据和方法,一般很难对反应的影响因素(如溶剂和反应温度)进行理论预测,这使