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WC-Co硬质合金基体上高附着力金刚石薄膜的制备

来源 :无机材料学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：walger

【摘 要】

：

采用微波等离子体化学气相沉积(CVD)法在WC-Co硬质合金基体上制备金刚石膜,研究了TiNx中间层的引入对金刚石薄膜质量及其附着性能的影响.结果表明,在酸浸蚀脱钴处理的基础上,

【作 者】

：

杨仕娥 鲁占灵 樊志琴 姚宁 张兵临 

【机 构】

：

郑州大学材料物理教育部重点实验室

【出 处】

：

无机材料学报

【发表日期】

：

2005年1期

【关键词】

：

金刚石薄膜 中间层 形核密度 附着力 diamond film  interlayer  nucleation density  adhesion 

【基金项目】

：

河南省科技攻关项目

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采用微波等离子体化学气相沉积(CVD)法在WC-Co硬质合金基体上制备金刚石膜,研究了TiNx中间层的引入对金刚石薄膜质量及其附着性能的影响.结果表明,在酸浸蚀脱钴处理的基础上,通过预沉积氮含量呈梯度变化的TiNx中间过渡层,可在硬质合金基体上制备出高质量的金刚石薄膜;压痕法测试其临界载荷达1000N.

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