基于原子层沉积技术的高精度多层膜X射线菲涅尔波带片的制备研究

来源 :光子学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：guxingyiren

【摘要】

：

基于原子层沉积与聚焦离子束切割抛光相结合的工艺,提出了一种多层膜型波带片制备技术。利用耦合波理论计算出最外环宽为10 nm的Al2O3/HfO2、Al2O3/SiO2、Al2O3/Ir和Al2O3/Ta

【作者】

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吴鹿杰文庆涛高雅增卢维尔夏洋李艳丽孔祥东韩立

【机构】

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中国科学院微电子研究所微电子仪器设备研发中心,中国科学院大学,北京交通大学理学院,中国科学院电工研究所,北京市微电子制备仪器设备工程技术研究中心

【出处】

：

光子学报

【发表日期】

：

2021年1期

【关键词】

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菲涅尔波带片原子层沉积聚焦离子束高分辨率耦合波理论 Fresnel zone plate Atomic layer deposition Focused

【基金项目】

：

国家重点研发计划(No.2018YFF0109100)

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基于原子层沉积与聚焦离子束切割抛光相结合的工艺,提出了一种多层膜型波带片制备技术。利用耦合波理论计算出最外环宽为10 nm的Al2O3/HfO2、Al2O3/SiO2、Al2O3/Ir和Al2O3/Ta2O5四种材料组合的多层膜波带片在X射线能量为8 keV和15 keV时的菲涅尔波带片的理论衍射效率,讨论了最外环宽和波带片高度对衍射效率的影响,选择了Al2O3/HfO2为后续叠层制备。研究了原子层沉积制备Al2O3和HfO2薄膜的生长特性,验证了原子层沉积技术制备单层膜厚为10 nm叠层结构的可行性,实

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