【摘 要】
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采用磁控溅射镀膜工艺,在Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9非晶条带的光滑面上溅射了130-650 nm厚的Ni80Fe20薄膜,制备了一系列Ni80Fe20/Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9复合结构样品.研究了镀层厚
【机 构】
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华东师范大学物理系纳光电集成与先进装备教育部工程研究中心
【基金项目】
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国家自然科学基金（51302085,11574084,51572086）
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采用磁控溅射镀膜工艺,在Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9非晶条带的光滑面上溅射了130-650 nm厚的Ni80Fe20薄膜,制备了一系列Ni80Fe20/Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9复合结构样品.研究了镀层厚度对材料的镀层形貌、巨磁阻抗效应（Giant Magneto-Impedance,GMI）和磁滞回线的影响.结果发现,镀层厚度为260 nm厚时,样品的表面形貌最平整致密,最大磁阻抗比提高到33.0%.在玻璃基片上溅射了相同厚度的系列Ni80Fe20薄膜,其磁滞回线结果发现薄膜的
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