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日本高知工科大学利用住友重机械与该校联合研制的反应等离子蒸发设备在200mm×200mm玻璃基板上蒸镀氧化锌膜，其膜厚度为30nm，电阻率为4．4νΩ·m，达到ITO电阻率水准。现已研发1m。大面积氧化锌膜的蒸镀技术。因氧化锌膜导电膜具有性能优异，制造成本低等优势，将替代ITO膜。
ZnO透明电极
【摘 要】
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日本高知工科大学利用住友重机械与该校联合研制的反应等离子蒸发设备在200mm×200mm玻璃基板上蒸镀氧化锌膜，其膜厚度为30nm，电阻率为4．4νΩ·m，达到ITO电阻率水准。现
【出 处】
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液晶与显示
【发表日期】
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2007年3期
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