论文部分内容阅读
介绍集成运算放大器负反馈电路的稳定性判定及不稳定因素的解决办法。
集成运算放大器负反馈电路的稳定性分析
【摘 要】
：
介绍集成运算放大器负反馈电路的稳定性判定及不稳定因素的解决办法。
【机 构】
：
中国兵器工业第214研究所
【出 处】
：
集成电路通讯
【发表日期】
：
2003年3期
其他文献
本文主要介绍国外可见CCD、X射线CCD、电子轰击CCD、虚相CCD、TDI-CCD、向帧速CCD和SuperCCD等固体摄像器件的最新发展现状以及未来发展趋势。
传统的双极电路制造工艺普遍采用了硼扩散工艺，主要用来形成重掺杂区。一般硼扩散都采用固相源扩散，通常用氮化硼圆片做为硼扩散的固相源，这些圆片的直径与硅片的直径相同或稍大
本文介绍国内外金属硅化物肖特基势垒红外焦平面阵列(MSSBIRFPA)的发展现状。概述了PtSi、IrSi、GeSi／SiMSSBIRFPA的研制和开发水平，同时也介绍了MSSBIRFPA技术在军事上的应用
由于CFC-113和1．1．1三氨乙烷对大气臭氧层有破坏作用，我国已承诺在2005年前全面禁止使用氟氨烃溶剂，电子生产厂家不得不选择新的替代品，而环保型清洗剂是很好的替代品，本文重点论述
下填充料应具有以下性能：(1)良好的流动性，以适于窄间隙、细间距的应用；(2)适宜的固化收缩应力；(3)与芯片、基板间优良的CTE匹配性，热循环应力低，满足大尺寸芯片、薄基板的需要；(4)