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本文介绍一种半导体清洗工艺用新型合成洗涤剂及其去除有机物和金属杂质的原理。这种洗涤剂主要由非离子表面活性剂和金属离子螯合剂组成,具有操作方便、成本低廉、无毒和无公害等优点,在电子工业中的应用具有广阔前景。
半导体工艺用合成洗涤剂和EDTA
【摘 要】
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本文介绍一种半导体清洗工艺用新型合成洗涤剂及其去除有机物和金属杂质的原理。这种洗涤剂主要由非离子表面活性剂和金属离子螯合剂组成,具有操作方便、成本低廉、无毒和无
【机 构】
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山东潍坊精细化工厂
【出 处】
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半导体技术
【发表日期】
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1990年3期
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