基于模糊模型的CMP过程智能R2R预测控制方法

来源 :计算机测量与控制 | 被引量 : 1次 | 上传用户：jiaoranbuzi

【摘要】

：

针对化学机械研磨(CMP)过程非线性、时变和产品质量不易在线测量的特性,提出了一种基于T-S模糊模型的CMP过程智能run-to-run(R2R)预测控制器FIPR2R;通过G-K聚类算法和最小二乘法对CMP过程的T-S模糊预测模型离线辨识,解决了复杂CMP过程难以建立精确数学模型的难题和提高了模型预测精度;通过双指数加权移动平均(dEWMA)中对过程扰动及漂移进行估计的方法实现反馈校正和基于克隆

【作者】

：

王亮胡静涛

【机构】

：

中国科学院沈阳自动化所工业信息学重点实验室,中国科学院研究生院,沈阳化工大学计算机科学与技术学院

【出处】

：

计算机测量与控制

【发表日期】

：

2012年06期

【关键词】

：

化学机械研磨 T-S模糊模型批次控制预测控制克隆选择 chemical mechanical polishing T--S fuzzy model r

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