SWIP-RFP装置等离子体环电压和电流测量(英文)

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介绍SWIP-RFP装置等离子体环电压和环电流的测量方法和测量结果。对RFP环电压模型也作了初步分析,实验中采用单匝线圈测量的环电压很大程度地取决于外电路的电流,这一电压中存在一感应分量,即使考虑了测量环电压的感应分量,RFP等离子体的环电压也要大于环形磁约束系统等离子体的经典电阻环电压,这是反场箍缩等离子体螺旋量守恒的一个重要课题。对与环电压有关的电磁特性也作了一定研究。测量结果表明,SWIP-RFP装置的等离子体电流一般大于60kA,在较好的放电条件下,等离子体电流可以驱动到100kA,等离子体电流最大值时刻的单匝线圈测量的环电压约为250V。这样的结果与其它方式的估算是相对应的。测量结果还揭示了RFP装置大的等离子体电流密度和异常的环电压的存在。 Describes the methods and measurements of the plasma ring voltage and ring current of SWIP-RFP devices. A preliminary analysis of the RFP ring voltage model was also carried out. In the experiment, the loop voltage measured by a single-turn coil largely depends on the current of the external circuit. There is an inductive component in this voltage even though the inductive component , The RFP plasma ring voltage is also greater than the ring of the ring magnetic confinement system plasma classic resistance ring voltage, which is the anti-pinch plasma shunt plasma conservation is an important issue. The electromagnetic properties related to the ring voltage have also been studied. The measurement results show that the plasma current of the SWIP-RFP device is generally larger than 60 kA. Under good discharge conditions, the plasma current can be driven to 100 kA, and the single-turn current at the maximum plasma current has a ring voltage of about 250V. This result corresponds to other estimates. The measurements also revealed the large plasma current density and abnormal ring voltage of the RFP device.
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