Cu—Ni-P合金的电沉积及镀层性能

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目前,少有Cu—Ni-P合金电沉积的研究报道,为此,采用电沉积法制备了Cu.Ni.P镀层,通过循环伏安法考察了铜在Cu—Ni—P镀液中的电化学行为,在此基础上,采用恒电位电沉积法在柠檬酸体系中制备了cu—Ni—P2-元合金镀层,并对镀层的形貌和硬度进行了表征。结果表明:不能单独与铜共沉积的非金属元素P,在一定的工艺条件下,通过在有铜离子的溶液中与镍的诱导共沉积,可以与铜形成Cu.Ni-P合金镀层;Cu.Ni—P合金镀层形貌良好,硬度比Cu镀层有显著提高。
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