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首次用电化学方法在玻碳基体上制成铁氰酸钻修饰膜电极(CHCF/GC).该电极非常稳定,可经受—1.0～0.9V(vs SCE)连续万次以上的电位扫描.讨论了CHCF膜电极的电荷传递过程,研究了影响CHCF膜电极伏安特性的各种因素和对Fe~(3+)/Fe~(2+)电对的催化作用。
铁氰酸钴膜电极的制备及特性
【摘 要】
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首次用电化学方法在玻碳基体上制成铁氰酸钻修饰膜电极(CHCF/GC).该电极非常稳定,可经受—1.0～0.9V(vs SCE)连续万次以上的电位扫描.讨论了CHCF膜电极的电荷传递过程,研究了影
【机 构】
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延安大学化学系,武汉大学化学系
【出 处】
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高等学校化学学报
【发表日期】
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1991年2期
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