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为提高CVD合成石英玻璃的沉积效率，对不同氢氧焰入射角的工况进行了试验和数值模拟，比较并分析了沉积效率的变化规律和二氧化硅微粒的沉积机制．结果表明：数值模拟与试验测得的沉积效率基本吻合；近沉积面的速度分布决定了二氧化硅微粒的沉积分布，二氧化硅微粒沉积的主要机制为湍流沉积，热泳沉积起协助作用；氢氧焰入射角不同，近沉积面的速度分布和沉积面的高温区域均有明显差异，入射角过大或过小，都会造成二氧化硅微粒沉积位置和沉积面高温区的重合区域减小，降低沉积效率．入射角度为22°时，沉积效率最高（71％）．