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利用阴极弧沉积的方法在201不锈钢基体上制备了TiN薄膜，研究了阴极弧径向不同位置大颗粒、膜厚以及膜层性能的分布规律。分别采用X射线衍射（XRD）和扫描电子显微镜（SEM）分析了膜层的相结构、膜层的表面形貌和截面形貌。研究了镀膜试样和基体在3．5％（质量分数）NaCl溶液中的腐蚀行为，并利用电化学方法分析其抗腐蚀性能，并采用球．盘式摩擦磨损、划痕测试以及微小压痕等方法测试了径向不同位置沉积的TiN薄膜摩擦磨损性能、膜基结合力以及硬度。结果表明，靠近靶材中心的位置，膜层的硬度、厚度最大，电化学腐蚀电位最高，