【摘 要】
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硅纳米线(Si NWs)由于具有独特的一维结构、热电导率、光电性质、电化学性能等特点,被广泛应用于热电与传感器件、光电子元器件、太阳能电池、锂离子电池等领域。金属辅助化
【机 构】
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云南大学材料科学与工程学院光电信息材料研究所,云南大学国家光电子能源材料国际联合研究中心,云南大学能源研究院
【基金项目】
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云南大学服务云南行动计划基金(2016MS15);云南大学东陆中青年骨干教师(C176220200);国家自然科学基金(11504322;11804295);云南省应用基础研究项目(2016FB081;2018FD012);东陆青年项目(WX069051)~~
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硅纳米线(Si NWs)由于具有独特的一维结构、热电导率、光电性质、电化学性能等特点,被广泛应用于热电与传感器件、光电子元器件、太阳能电池、锂离子电池等领域。金属辅助化学刻蚀法(MACE)是制备Si NWs的常用方法之一,具有操作简便、设备简单、成本低廉和高效等优点,可大规模商业化应用,因而近年来被广泛研究。金属辅助化学刻蚀制备硅纳米线的过程可以分为两步:首先在洁净的硅衬底表面沉积一层金属(Ag、Au、Pt等)纳米颗粒,以催化、氧化它附近的硅原子;然后利用HF溶解氧化层,从而对硅晶片进行刻蚀,形成纳米线阵
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