光放大器是光通信的关键组成部分。对半导体光放大器的算法模型进行优化与测试,系统的分析了建模运放的增益和噪声指数。测试结果表明,半导体光放大器的最佳幅度调制条件是输入-5 dBm的功率与选择100 mA的偏置电流,最佳相位调制条件是输入-20 dBm的功率与选择100 mA的偏置电流。分析并搭建了通信速率为2.5 Gb/s的20 km双向传输通信系统,对半导体光放大器和分布反馈激光器集成的光网络单元进行了上行链路和下行链路的双向与单向传输测试。在前向误码率要求为2.4×10-4时,双向
通过对300M钢表面激光熔覆316L不锈钢修复的实验研究,探究激光熔覆修复层的组织及性能,本文在前期实验的基础上,选用316L不锈钢粉末作为熔覆材料,开展变功率激光熔覆对比实验研究。采用金相分析、EDS分析、XRD分析、电化学分析的方法,研究了不同激光功率对熔覆层宏/微观组织、显微硬度和耐蚀性能的影响。结果表明:当激光功率为1.5 kW时,在300M钢基体上熔覆得到质量最优的316L不锈钢熔覆层;熔覆层与基体呈冶金结合,底部为平面晶组织,中下部是胞状晶/柱状晶,中上部是树枝晶/等轴晶,表层主要是等轴晶组织
为了研究受激喇曼散射(SRS)对基于四波混频(FWM)的光纤参量放大器(FOPA)增益性能的影响,本文采用四阶龙格库塔法求解SRS和FWM共同作用下的稳态非线性耦合波方程,并针对泵浦间隔、泵浦功率、非线性系数、泵浦中心波长、零色散波长、色散斜率等因素分析SRS对基于FWM的FOPA增益性能的影响。研究结果表明,当光纤非线性系数γ≤2.5 km-1·W-1时,SRS使FOPA增益降低,即SRS对信号放大起消极作用;当γ>2.5km-1·
摘要：液体静压导轨技术主要用于精密与超精密机床，现介绍静压导轨滑块的工作原理，并分别从油膜厚度、流量控制器、热变形这三个影响因素出发，对液体静压导轨的性能进行阐述，总结众多学者对这三方面影响因素的研究成果。 关键词：液体静压导轨;油膜厚度;流量控制器;热变形 0 引言 液体静压技术于1983年被应用到天文望远镜上，随后逐渐应用于超精密机床的进给系统。国内开始研究液体静压技术的时间相对国外较
针对Ti6Al4V材料的激光抛光工艺进行实验研究,通过改变脉冲式激光的工艺参数设置,来分析激光参数对抛光工艺效果的影响,主要研究了激光输出功率、离焦量e和激光光斑重叠率δ这三个参数的影响规律与作用机理,并结合试样表面粗糙度测量值Ra,得出:激光输出功率为300 W左右,离焦量e控制在6~8 mm范围内,光斑重叠率δ在70%~75%范围内时,脉冲式激光对TC4合金材料表面的抛光效果最佳;最后通过光学显微镜测量仪器来分析抛光后的材料表面形貌与材料抛光层的内部晶格晶粒变化,来分析激光抛光对试样抛光层物理性质的影
基于同向偏振泵浦技术,实现了LD双端同向偏振泵浦Tm∶YLF激光器的1.9μm高效输出。在激光器实际运行状态下,对晶体内温度分布进行了模拟仿真并开展实验研究。实验采用偏振分束器和半波片,使两束不同方向的泵浦光转换为同向偏光振注入晶体。晶体掺杂浓度为3%.at,尺寸为3 mm×3 mm×14 mm。激光器采用长度为80 mm的“L”形平凹腔。输出镜透过率T=15%,曲率半径R=150。当泵浦功率为47.42 W时实现了14.72 W的功率输出。波长为1907.6 nm,线宽为1.26 nm。光束质量为M
为了解激光工艺参数对H13钢表面再制造成型H13粉末层几何特征的影响规律,设计研究了工艺参数(激光功率、光斑直径)对单道成形层几何特征(成形层高度、宽度、基体熔化深度与宽度)影响的实验,根据实验结果归纳了工艺参数对成形层几何特征的影响规律,并采用极差分析了各几何特征的主要影响因素,同时利用了激光再制造形成层几何特征模型对实验结果进行了分析。结果表明光斑尺寸对熔覆层宽度、基体熔化区宽度、深度影响更明显,而激光功率、光斑尺寸对熔覆层高度的影响无显著差别;此外,粉末综合利用率随辐照激光能量密度的增大先增大后维持
红外成像系统中,减小像元间距是目前重点发展的主题之一,为了实现小的像元间距,制备高精度均匀化的小型铟凸点阵列是关键之一。针对7.5μm像元间距,本文通过系列实验和分析,研究了不同打底层尺寸和铟柱尺寸的组合对铟凸点制备的影响,为制备高精度小型铟凸点阵列提供了良好的指导。
针对传统基于鲁棒主成分分析(RPCA)的红外弱小目标检测算法对噪声不敏感,算法运行时间长,鲁棒性不强的问题,提出一种重加权红外小目标图像模型,并用非精确增广拉格朗日乘子法(AIALM)求解。该方法首先将原始红外图像转化为红外块图像模型,然后采用重加权核范数对背景块图像进行约束,较好地保留了背景边缘。针对单纯使用l_1范数不能抑制某些噪声或杂波的问题,引入了加权l_1范数,进一步增强了目标图像的稀疏
Yb∶YAG表层增益陶瓷板条在烧结过程中存在离子扩散行为,导致扩散区域折射率变化,引起波前畸变。本文结合扩散理论,建立表层增益陶瓷板条离子浓度分布、折射率空间分布模型,利用数值模拟的方法分析了扩散行为对静态波前畸变的影响。与传统晶体板条相比,陶瓷板条的离子扩散行为,对于静态波前畸变有一定影响,畸变在λ/10量级。