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用ＥＳＲ方法研究了吸附在半导体微粒表面的咔唑催化氧化过程，得到较为稳定的咔唑氮氧自由基，其ｇ值为２．００６０，半衰期约为１０－２０ｍｉｎ，实验表明，无论是光催化氧化还是光化夺氢后进行氧化，咔唑氮氧自由基的生成过程均为退化分支链反应过程。
咔唑氮氧自由基的光催化氧化产生及其机理
【摘 要】
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用ＥＳＲ方法研究了吸附在半导体微粒表面的咔唑催化氧化过程，得到较为稳定的咔唑氮氧自由基，其ｇ值为２．００６０，半衰期约为１０－２０ｍｉｎ，实验表明，无论是光催化氧化还是光化夺氢后进行氧化，咔唑氮氧自由基的生成
【机 构】
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中国科学院化学研究所分子动态与稳态结构国家重点实验室,100080
【出 处】
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物理化学学报
【发表日期】
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1995年11期
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