【摘 要】
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采用密度泛函理论（DFT）框架下的局域密度近似（LDA），计算了四方HfO2晶体的电子结构，包括能带结构和态密度。在此基础上计算了四方HfO2晶体的光学线性响应函数，包括复介电函数、吸收光
【机 构】
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西北工业大学材料学院、凝固技术国家重点实验室
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采用密度泛函理论（DFT）框架下的局域密度近似（LDA），计算了四方HfO2晶体的电子结构，包括能带结构和态密度。在此基础上计算了四方HfO2晶体的光学线性响应函数，包括复介电函数、吸收光谱、复折射率和光电导谱。通过比较发现，计算结果与实验结果吻合较好，说明采用密度泛函理论的局域密度近似来计算HfO2材料的光学性质是比较可靠的。
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