【摘 要】
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中国半导体企业目前对于如何借鉴、应用现有专利技术来节约研发成本、缩短研发周期、避免专利侵权等问题还没有很深刻的认识。为了让更多企业能够借鉴已公开的专利技术，了解行
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中国半导体企业目前对于如何借鉴、应用现有专利技术来节约研发成本、缩短研发周期、避免专利侵权等问题还没有很深刻的认识。为了让更多企业能够借鉴已公开的专利技术，了解行业核心技术和其他企业的技术部署，北京市集佳律师事务所上海分所，对浅沟槽隔离技术（STI）中国专利申请进行了调研、分析。（全文见www．sjchinamag．com）
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