新型水溶性荧光标示剂吲哚方酸菁染料的合成及光谱性能

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用方酸与不同的N烷基取代吲哚啉季铵盐缩合制备了一系列对称的水溶性方酸菁染料.通过核磁共振氢谱和质谱对合成的染料结构进行了表征,研究了它们在不同溶剂中的吸收和发射光谱,结果表明,随着溶剂极性的增大,染料的吸收光谱发生蓝移,表现为负向溶剂化效应,在极性溶剂中的荧光量子产率比在水中的大.考察了N位取代基对染料水溶液光稳定性的影响,结果表明在吲哚环N原子上引入较大的苄基有助于提高光稳定性,且随着苄基上取代基吸电子能力的增强,染料的光稳定性增强。
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