【摘 要】
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以0.27 mm规格高磁感取向硅钢为研究对象，研究了激光刻痕功率、刻痕频率、刻痕速度及刻痕间距等参数对取向硅钢铁损降幅及磁畴结构的影响。结果表明，不同工艺刻线形貌及磁畴结构存在差异性，其中低刻痕功率、高刻痕频率和刻痕速度下，刻线呈现浅轻形貌，磁畴呈不均匀散乱分布。该牌号优化刻痕工艺参数为：刻痕功率30%、刻痕频率50 kHz、刻痕速度500 mm/s、刻痕间距5 mm,磁畴细化效果好，相应铁损降幅
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以0.27 mm规格高磁感取向硅钢为研究对象，研究了激光刻痕功率、刻痕频率、刻痕速度及刻痕间距等参数对取向硅钢铁损降幅及磁畴结构的影响。结果表明，不同工艺刻线形貌及磁畴结构存在差异性，其中低刻痕功率、高刻痕频率和刻痕速度下，刻线呈现浅轻形貌，磁畴呈不均匀散乱分布。该牌号优化刻痕工艺参数为：刻痕功率30%、刻痕频率50 kHz、刻痕速度500 mm/s、刻痕间距5 mm,磁畴细化效果好，相应铁损降幅达9.47%。此外，在激光刻痕参数交互作用下，铁损降幅随激光能量密度增大而显著增加，但激光能量过大会加剧破坏取向硅钢应力涂层，不利于磁畴细化和提高铁损降幅。
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