【摘 要】
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<正>LG显示(以下称LGD)通过产学合作孵化课题支援,联手延世大学Shim Uyeong(新材料工学科)教授团队,开发出革新性新面板技术。研发成果刊登于国际学术期刊Nature Communicati
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<正>LG显示(以下称LGD)通过产学合作孵化课题支援,联手延世大学Shim Uyeong(新材料工学科)教授团队,开发出革新性新面板技术。研发成果刊登于国际学术期刊Nature Communications。根据韩媒inews24报道,研究团队利用柔性透明的新型Photo光罩实现了超精细Pattern,是一种全新的光刻(Photolithography)技术。此技术可应用至LCD和OLED制程。光刻(Photolithography)技术是指半导体和面板制程中,将光刻胶(Photo resist)感光液薄涂于晶圆或玻璃上,然后将绘制Pattern的光罩置于其上,通过照光形成电路的技术。而此电路的成型,主要取决于称之为Photo mask的核心部件。
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