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利用三离子束辅助沉积设备 ,以离子束辅助沉积、磁控溅射和离子束辅助磁控溅射几种工艺在GCr15基体上沉积TiN薄膜。实验结果表明 :离子束辅助磁控溅射有效地提高了薄膜的硬度、耐磨性和耐蚀性 ,改善了膜基结合力。
离子束辅助磁控溅射沉积TiN薄膜的研究
【摘 要】
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利用三离子束辅助沉积设备 ,以离子束辅助沉积、磁控溅射和离子束辅助磁控溅射几种工艺在GCr15基体上沉积TiN薄膜。实验结果表明 :离子束辅助磁控溅射有效地提高了薄膜的硬度
【机 构】
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西安交通大学
【出 处】
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稀有金属材料与工程
【发表日期】
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2002年03期
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